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SNCR和SCR脫硝技術的比(bi)較(jiao)
SNCR和SCR脫硝技術的比較
一.SNCR和(he)SCR相比較,其特(te)點是(shi):
1. 不使用催(cui)化劑。
2. 參加反應的還(huan)原(yuan)劑除了(le)可以使(shi)用氨(an)以外,還(huan)可以用尿素(su)。而SCR煙(yan)氣溫度比較(jiao)低(di),尿素(su)必(bi)須制成氨(an)后(hou)才能(neng)噴入煙(yan)氣中。
3. 因為沒有催化劑(ji),因此,脫硝(xiao)還原反應的溫(wen)度比(bi)較高,比(bi)如脫硝(xiao)劑(ji)為氨時(shi),反應溫(wen)度窗(chuang)為870~1100℃。當煙氣(qi)溫(wen)度大于1050℃時(shi),氨就會(hui)開(kai)始被(bei)氧化成NOx,到1100℃,氧化速(su)度會(hui)明顯加快(kuai),一(yi)方面,降(jiang)低(di)(di)了脫硝(xiao)效率(lv),另外一(yi)方面,增加了還原劑(ji)的用量(liang)和成本(ben)。當煙氣(qi)溫(wen)度低(di)(di)于870℃時(shi),脫硫脫硝(xiao)的反應速(su)度大幅降(jiang)低(di)(di)。
4. 由于反應溫度窗的(de)(de)緣(yuan)故,反應時(shi)間以及(ji)噴氨點的(de)(de)設置以及(ji)切(qie)換受鍋(guo)爐爐膛(tang)和(he)/或受熱面(mian)布置的(de)(de)***。
5. 為了滿足反應溫(wen)度(du)的(de)(de)(de)要求,噴氨(an)控制的(de)(de)(de)要求很高。噴氨(an)控制成了SNCR的(de)(de)(de)技術(shu)關鍵,也是***SNCR脫硝效率和(he)運行的(de)(de)(de)穩定性(xing),可靠性(xing)的(de)(de)(de)*大障礙。
6. 漏氨率一般控制在5~10ppm,而SCR控制在2~5ppm。
7. 由于(yu)反應溫(wen)度窗(chuang)以及漏(lou)氨(an)的(de)***,脫(tuo)硝(xiao)效率(lv)較一般(ban)為(wei)30~50%,對于(yu)大型(xing)電站鍋爐(lu),脫(tuo)硝(xiao)效率(lv)一般(ban)低于(yu)40%。而SCR的(de)脫(tuo)硝(xiao)效率(lv)在技(ji)術上(shang)(shang)幾乎沒(mei)有上(shang)(shang)限,只(zhi)是從性(xing)(xing)價比上(shang)(shang)考慮,國外(wai)一般(ban)性(xing)(xing)能保(bao)證值為(wei)90%。
8. SCR在催化劑的作(zuo)用下,部(bu)分(fen)SO2會轉(zhuan)化成(cheng)SO3,而SNCR沒有這個問題。
總之,SNCR的(de)優點是(shi)投資省,適用于不(bu)(bu)需要快(kuai)速**脫(tuo)硫脫(tuo)硝(xiao)的(de)工業爐(lu)和城市(shi)垃圾焚燒爐(lu),可以(yi)直接使用尿素,且不(bu)(bu)存在(zai)SO2轉化成SO3的(de)問題(ti),其缺點是(shi)脫(tuo)硝(xiao)效率(lv)低(di)、運(yun)行的(de)可靠性和穩定(ding)性不(bu)(bu)好。
二. 相對于SNCR工藝,SCR工藝具有如下特點:
① 工作溫(wen)度(du)低。SNCR法工作溫(wen)度(du)大于850℃,而SCR法的工作溫(wen)度(du)范(fan)圍為:225℃~420℃,無(wu)需(xu)GGH,投資和運行成(cheng)本較低。
② 脫硝效率高(gao)。SNCR法脫硝率僅為30%左右,而SCR工(gong)藝可高(gao)達90%以上。
③ 反應(ying)產物(wu)是氮氣(qi)和水,不(bu)會出(chu)現二次(ci)污染。
④ 具有多(duo)種布(bu)(bu)置(zhi)方(fang)(fang)式(shi):高溫高含(han)(han)塵布(bu)(bu)置(zhi)方(fang)(fang)式(shi)(省煤器后(hou)、空預(yu)器前)、中溫低(di)(di)含(han)(han)塵方(fang)(fang)式(shi)(除(chu)塵器后(hou),煙囪前)、低(di)(di)溫低(di)(di)含(han)(han)塵布(bu)(bu)置(zhi)方(fang)(fang)式(shi)(濕法脫硫后(hou),煙囪前)
⑤ 提(ti)供(gong)尿素、氨水和純氨等三種還原劑供(gong)應方式;
⑥ 出(chu)口氨氣逃逸率< 3ppm(ppm—十萬分之一(yi)),不會引起(qi)二次(ci)污染(ran);
⑦ SO2氧化率< 1%。
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